Enasolv MC清洗剂金属加工除油机加工清洗替代碳氢无闪点-上海锐一环保科技有限公司
电话咨询
Enasolv MC清洗剂金属加工除油机加工清洗替代碳氢无闪点
Enasolv MC 是一款高溶解力稳定化精密共沸清洗剂，无闪点不可燃，ODP=0，溶解力强，适配气相清洗、超声波清洗、无尘手擦，可蒸馏回收，兼顾重油污、固化松香助焊剂、未固化硅胶残留清洗，对高纯氧化铝陶瓷、金属基材兼容性良好，广泛用于电子、精密五金、半导体治具、液态硅胶行业清洗
规格参数
| 品牌 | 2206 |
| 型号 | MC |
| 沸点 | L |
| KB值 | L |
| 闪点 | L |
| 比重 | L |
| GWP值 | L |
详情
性能特点
- 清洗力强，KB 值 125，对重切削油、拉伸油、固化松香助焊剂、蜡质、未固化液态硅胶、指纹油污去除效果突出；
- 无闪点、不可燃，相比碳氢溶剂，燃爆风险更低，车间 EHS 管控压力更小；
- 沸点 68℃，挥发速度适中，气相清洗干燥快，控制得当不易留水印白印，适合闭环气相设备循环使用；
- 化学稳定性好，添加专用稳定剂，不易酸化分解，槽液寿命长；对不锈钢、铝、铜、高纯氧化铝陶瓷稳定；软质 PVC、部分弹性橡胶、薄涂层需要提前试样；
- 低表面张力、渗透性好，可以渗入盲孔、螺纹、微小缝隙；可蒸馏再生，损耗可控。
应用领域
- 半导体：晶圆机械手氧化铝陶瓷叉指、载具、治具，去除重油污、有机残留；
- SMT 电子：PCB、连接器、功率器件，清洗顽固松香助焊剂；
- 硅胶行业：未固化液态硅胶、硅胶模具、硅胶件残胶清洗；
- 精密机械：轴承、五金冲压件、航空零部件脱脂、去除研磨膏；
- 工艺方式：气相清洗机、超声波清洗、无尘车间手工擦拭。
理化指标
- 外观：无色透明液体，低气味
- 沸点：68℃
- KB 值：125
- 闪点：无
- ODP：0
- 纯度：≥99.5%
- 密度（25℃）：1.35 g/cm³
- 适用工艺：气相、超声、手擦，支持蒸馏再生